电子技术第1章笔记 常用半导体器件
电子技术第1章笔记
1.半导体材料的导电特性
1-1 半导体的特性
半导体: 常温下导电能力介于导体和绝缘体之间的物质
半导体特性: 热敏特性、光敏特性、掺杂特性
1-2 本征半导体
本征半导体: 完全纯净的、具有晶体结构的半导体
本征激发: 产生导电粒子,自由电子与空穴成对出现
半导体导电的最大特点: 两种载流子同时参与导电
1-3 杂质半导体
杂质半导体: 在本征半导体中掺杂微量的其他元素
N型半导体:掺入五价元素,自由电子是多数载流子,空穴是少数载流子
P型半导体:掺入三价元素,空穴是多数载流子,自由电子是少数载流子
关于杂质半导体的几点说明?
- 多子浓度取决于掺杂浓度,少子浓度取决于本征激发
- 半导体整体为电中性
- 由于本征激发的作用,温度变化会使载流子数目发生变化
2.PN结及其单向导电性
2-1 PN结的形成
2-2 PN结的单向导电性
PN结加正向电压
PN结加正向电压时,外电场削弱内电场的作用,促进多子的扩散运动,阻碍少子的漂移运动,PN结变窄,正向电阻较小,PN结导通
PN结加反向电压
PN结加反向电压时,外电场与内电场作用叠加,阻碍多子的扩散运动,促进少子的漂移运动,PN结变宽,PN结截止
3.二极管的伏安特性
3-1 半导体二极管的基本结构
二极管内部的基本结构就是一个PN结
点接触型:结面积小,允许电流小,适用于高频电路
面接触型:结面积大,允许电流大,适用于低频电路
平面型:结面积可大可小
3-2 半导体二极管的伏安特性
死区(OA段): 外加正向电压较低时,正向电流近似为零
开启电压: 正向电流开始增加是对应的电压(硅管0.5V,锗管0.2V)
正向导通压降: 二极管工作在正差能够导通状态时的正向电压变化(硅管0.6-0.7V,锗管0.2-0.3V)
反向饱和电流: 反向电压不超过某一范围时,反向电流的大小基本恒定,且随温度升高而增大(硅管几微安一下,锗管几百微安)
反向击穿(电击穿): 反向电压过高时,反向电流忽然增大(可以恢复)
热击穿: 电击穿后,二极管因过热而烧毁(不可恢复)
3-3 半导体二极管的主要参数
最大整流电流$I_F$ : 二极管长期使用时允许通过的最大正向平均电流
最高反向工作电压$U_{RM}$: 保证二极管不被击穿而给出的反向峰值电压
反向峰值电流I_{RM}: 二极管加最高反向工作电压时的反向电流,其值越小说明二极管的单向导电性越好
4.二极管的应用及电路分析
4-1 半导体二极管的常见应用
整流:将交流电变为脉动直流电,例如半波整流、桥式整流。 检波:从调制信号中取出有用信号。 钳位:限制某一点电位,使其不超过或不低于某一固定值。 限幅:限制输出电压的最大值或最小值。 隔离:防止不同支路互相影响。 保护:防止反向电压或过电压损坏元件。
4-2 二极管应用电路分析
将二极管断开,正向电压大的优先导通
5.稳压二极管及其应用分析
5-1 稳压二极管的伏安特性
稳压二极管反向击穿后,电流变化很大时,其两端电压变化很小,工作在反向击穿区
5-2 稳压二极管的主要参数
稳定电压$U_Z$:稳压管正常工作时两端的电压
稳定电流$I_Z$和最大稳定电流$I_{Zmax}$:稳定电流是工作电压等于稳定电压使得反向电流,最大稳定电流是稳压管允许通过的最大反向电流
最大耗散电流$P_{ZM}$:稳压管不发生热击穿的最大功率损耗
动态电阻$r_Z$:稳压管稳定工作时的电压变化量与电流变化量的比值,$r_Z$越小,稳压性能越好
电压温度系数$\alpha_U$: 温度变化$1^\circ\mathrm{C}$时,$U_Z$变化的百分比数
为保证稳压二极管始终工作在正常工作区,使用时需要串联限流电阻
6.双极型晶体管及其电流放大作用
6.1 双极型晶体管结构
放大所需的内部结构特点
放大电路的偏置条件
发射结正向偏置,集电结反向偏置
\[V_C>V_B>V_E\]6.2 双极型晶体管的电流放大原理
发射极发射的电子很多 基区复合的电子很少 集电极收集的电子很多
\[I_C = I_{CE} + I_{CBO}\] \[I_B = I_{BE} - I_{CBO}\] \[\overline{\beta} = \frac{I_{CE}}{I_{BE}} = \frac{I_C - I_{CBO}}{I_B + I_{CBO}} \approx \frac{I_C}{I_B}\] \[I_C = \overline{\beta} I_B + \left(1+\overline{\beta}\right) I_{CBO} = \overline{\beta} I_B + I_{CEO}\]7.双极型晶体管的伏安特性及其小信号模型
7-1 双极型晶体管的特性曲线
输入特性曲线
输入特性:在集电极—发射极电压$U_{CE}$一定时,基极电流$I_B$和基极—发射极电压$U_{BE}$之间的关系。
开启电压: BJT输入特性死区结束的电压,硅管0.5V,锗管0.2V
发射结压降$U_{BE}$: NPN型硅管0.6-0.7V,PNP型锗管0.2-0.3V
输出特性曲线
输出特性: 在基极电流$I_B$一定时,集电极电流$I_C$和集电极—发射极电压$U_{CE}$之间的关系
放大区: 输出特性曲线接近于水平的部分
截止区: $I_B=0$曲线一下的部分,此时$I_C+I_{CEO}$,集电极与发射极之间相当于开路
饱和区: $u_{CE}<u_{BE}$时,集电结和发射结都正偏,集电极与发射极之间相当于短路
7-2 温度对晶体管特性的影响
- 温度升高,反向漏电流增大,大约每升高 10℃ 增加一倍
- 温度升高,发射结电压$U_{BE}$减小,大约每升高 1℃ 减小 2 mV 到 2.5 mV
- 温度升高,电流放大系数 $\beta$ 增大,大约每升高 1℃ 增大 0.5% 到 1.0%
7-3 晶体管的简化小信号模型
\[r_{be} = \frac{\Delta U_{BE}}{\Delta I_B}\] \[r_{be} \approx r_b + (\beta + 1)\frac{26\mathrm{mV}}{I_E}\]为什么要有小信号模型? 但在放大电路中,通常会先设置一个静态工作点$Q$,然后在这个点附近叠加一个很小的交流信号,小信号模型只研究这些量之间的关系
8.双极型晶体管的主要参数
8-1 电流放大倍数
共射直流电流放大系数
\[\overline{\beta} = \frac{I_{CE}}{I_{BE}} = \frac{I_C - I_{CBO}}{I_B + I_{CBO}} \approx \frac{I_C}{I_B}\]共射交流电流放大系数
\[\beta = \frac{\Delta I_C}{\Delta I_B}\]8-2 极间饱和电流
集基级反向饱和电流$I_{CBO}$
集射级穿透电流$I_{CEO}$
8-3 极限参数
集电极最大允许电流$I_{CM}$
极间反向击穿电压
- 集-射级反向击穿电压$U_{(BR)CEO}$
- 集-基级反向击穿电压$U_{(BR)CBO}$
集电极最大允许耗散功率$P_{CM}$










